本文介绍了硬件工程师入门的基础元器件,包括二极管、三极管、MOS管和IGBT。对比了肖特基二极管与硅二极管的特性,探讨了三极管作为开关的应用和电阻选择方法,解释了MOS管的结构和栅极串联电阻布局,并概述了IGBT在电力转换中的重要角色及其发展。
硬件工程师入门基础知识
(一)基础元器件认识(二)
tips:学习资料和数据来自《硬件工程师炼成之路》、百度百科、网上资料。
1.二极管
2.三极管
3.MOS管
4.IGBT
5.晶振
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1.二极管
肖特基二极管和硅二极管的比较:


肖特基二极管的优势主要在速度和压降,对这两个没要求的场景,那自然选择更便宜的由硅构成的二极管。
二极管漏电流
这个参数,值得一提的是,肖特基二极管的漏电流,是硅二极管的 100 倍左右。
还有一点就是,漏电流与温度有很大的关系。温度越高,漏电流越大。
硅二极管温度越高,漏电流越大,是原因硅二极管的漏电流是由少子决定的,温度越高,本征激发越强烈,少子浓度会升高,所以漏电流就越大了。

反向恢复时间:也是比较重要的参数,这个前面有文章专门讲过,就不再说了。
工作频率:由反向恢复时间决定的。
耐压:记住肖特基二极管耐压值,很难做高就行吧,一般不超过 100V,当然,更高的也有,这里只说常见的。而硅二极管可以做很高。
反向恢复时间
实际应用中的二极管,在电压突然反向时,二极管电流并不是很快减小到 0,而是会有比较大的反向电流存在,这个反向电流降低到最大值的 0.1 倍所需的时间,就是反向恢复时间。

几种二极管的最高工作频率顺序是下面这样的:

为什么要用肖特基二极管续流?
我们来看一个问题:
为什么开关电源中,一般用肖特基二极管续流,不用快恢复二极管呢?
主要有两点:
一是肖特基二极管导通电压更低。
二是肖特基二极管速度更快,反向恢复时间更小。
如此一来,使用肖特基二极管肯定损耗是更小的,温度更低,也不会烫成狗,这样整个开关电源效率也更高。
2.三极管


常用的三极管电路设计-电阻到底是怎么选的
模型天花乱坠,学起来非常费劲。
绝大多数情况,我们是把三极管当作一个低成本的开关来使用的,作为开关,虽然 MOS 可能更为合适,不过三极管价格更低,在小电流场景,三极管反而是用得更多的。

一个 NPN 三极管,价格也就 2 分钱左右。
1、电平转换,反相

这个电路用得非常多,有两个功能。
一是信号反相,就是输入高电平,输出就是低电平;输入低电平,输出就是高电平
二是改变输出信号的电压,比如输入的电压范围是 0V 或者是 3.3V,想要得到一个输出是 0V 或者是5V 的电平怎么办呢?让 Vcc 接 5V 就可以了,输出高的时候,out 的电平就是大约为 5V 的。
我们经常使用三极管驱动 LED 灯,比如下面这个电路:

3、驱动 MOS 开关
还一个电路也用得非常多,那就是驱动电源的 PMOS 开关,如下图:

在 in 为低时,三极管不导通,相当于是开路,PMOS 管的 Vgs 为 0,PMOS 管也不导通,Vcc2 没有电。
在 in 为高时,三极管导通,集电极相当于是接地 GND,于是 PMOS 管的 Vgs 为-Vcc1,PMOS 管导通,也就是 Vcc1 与 Vcc2 之间导通,Vcc2 有电。
我们的电路输入一般是只有两种状态,0V 或者是其它的高电平(1.8V,3.3V,5V 等),截止状态一般不用怎么考虑,因为如果让三极管的 Vbe=0,自然就截止了,重要的是饱和状态如何保证。
那么啥叫饱和状态?
我们先假定三极管工作在放大状态,那么放大倍数就是β,如果基极有 Ib 电流流过,那么集电极 Ic=β*Ib,Ic 也会在 Rc 上面产生压降 Urc。

Uce=Vcc-Urc≈0。
LED 灯的例子
已知条件:输入控制电压高电平为 3.3V,电源电压为 5V,灯的导通电流 10mA,灯导通电压 2V,三极管选用型号 MMBT3904

三极管饱和导通时,Vce=0V,所以 Rc=(5V-2V)/10mA=300Ω。
查询芯片手册,三极管 MMBT3904 的的放大倍数 β(hfe)如下图所示:

可以看到,在 Ic=10mA 时,放大倍数最小为 100。
那么 Ib=10mA/100=100uA,三极管导通时,Vbe 约为 0.7V,继而求得 Rb=(3.3-
0.7V)/100uA=26K。
也就是说只要 Rb<26K,三极管就工作在了饱和状态,像这种情况,我一般取 Rb=2.2K,或者是 1K,4.7K,10K,这样 Ib 更大,更能让三极管工作在饱和状态。
具体取多少,取决于整个板子的电阻使用情况,比如 10K 电阻用得多,那我就取 10K,这样物料种类少,生产更方便。
或者咱为了保险一点,比如要兼容别的三极管型号,可以取 Rb=1K,这样即使别的三极管 β 小于100,也能工作在饱和状态。
一般来说,我们不要取正好的值,比如 26K 或者接近 26K 的值,这样太不安全。
我们也可以反向验算下,假如 Rc=300Ω,Rb=10K,那么 Ib=(3.3-0.7)/10K=0.26mA,那么Ic=1000.26mA=26mA,那么 Rc 的压降是300Ω26mA=7.8V,这已经超过 Vcc 了,所以管子肯定是工作在饱和状态的。
2、MOS 管体二极管的持续电流可以根据 MOS 管的功耗限制来计算,
3、MOS 管体二极管瞬间可以通过的电流,等于 NMOS 管导通后瞬间可以通过的电流,一般不会是瓶颈

我们看一下 NMOS 管的结构。

以 NMOS 为例,如上图,S 和 D 都是掺杂浓度比较高的 N 型半导体,衬底为 P 型半导体,并且衬底和 S 极是接到一起的。
在 Vgs 电压大于门限电压 Vth 时,也就是栅极相对衬底带正电,它会将 P 型衬底中的少子(电子)吸引到 P 型衬底上面,形成反型层,也就是导电沟道。

如上图,串联的电阻 R1 到底是放在靠近 IC 端,还是靠近 MOS 端?(注意,图中的 L1 是走线寄生电感,并不是这里放了个电感器件)
Demo 板硬件设计可以直接在 Ti 官网下载,如下图,可以看到,串联电阻是放置在 MOS 管端的。

2、 Ti 的 POE 方案 TPS23753A 的 Demo 板
原理图如下:

PCB 如下图,串联电阻也是放置在靠近 MOS 管端。

3、 MPS 的无刷电机驱动芯片 MP6535。
如下图,6 个 MOS 的栅极串联电阻 R18,R19,R20,R21,R22,R23 放置在中间。
从走线长度看,Q1,Q2,Q3 串联的电阻离 MOS 较近,离驱动 IC 较远。Q4,Q5,Q6 串联的电阻在 MOS 和驱动 IC 中间。

大部分情况栅极串联电阻靠近 MOS 管放置这个说法是属实的。


首先,晶振一般分为两种,一种叫有源晶振,一种叫无源晶振。



Cm:动态电容,反映了振动体的弹性,随频率会变化
Lm:动态电感,反映了振动体的质量,随频率会变化
Rm:动态电阻,反映了振动体的损耗,随频率会变化
C0:静电容,两个电极间形成的电容。
目前工作中用得最多的就是皮尔斯晶体振荡器,也就是下面这个结构。

CL1,CL2 为匹配电容,Rext 通常为串联的几百欧姆电阻(有时也不加)。有时候数据手册会有推荐参数。

Inv:内部反相放大器。
Q:石英或陶瓷晶振。
RF:内部反馈电阻。
RExt:外部限流电阻,限制反相器输出电流。
CL1 和 CL2:两个外部负载电容。
Cs:寄生电容:PCB 布线,OSC_IN 和 OSC_OUT 管脚之间的效杂散电容
在几乎所有的 ST 的 MCU 中,RF 是内嵌在芯片内的。它的作用是让反相器作为一个放大器来工作。
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